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氧化鋁陶瓷基片

氧化鋁陶瓷基片

產品相關介紹
簡要介紹
Al2O3陶瓷基片雖然熱導率不高(20W/m.K),但因其生產工藝相對簡單,成本較低,價格便宜,成為目前最廣泛應用的陶瓷基片
詳細參數(shù)

      


 氧化鋁陶瓷基片

陶瓷基片,又稱陶瓷基板,是以電子陶瓷為基的,對膜電路元件及外貼切元件形成一個支撐底座的片狀材料。陶瓷基片具有耐高溫、電絕緣性能高、介電常數(shù)和介質損耗低、熱導率大、化學穩(wěn)定性好、與元件的熱膨脹系數(shù)相近等主要優(yōu)點,但陶瓷基片較脆,制成的基片面積較小,成本高。

實際生產和開發(fā)應用的陶瓷基片材料有Al2O3、AlN、SiC、BeO、BN、氧化鋯和玻璃陶瓷等。其中,BeO和SiC熱導率很高(3250W/m.K),但BeO因具有毒性,應用范圍小,故產量低;SiC因體積電阻較?。?lt;1013W·cm)、介電常數(shù)較大(40)、介電損耗較高(50),不利于信號的傳輸,且成型工藝復雜、設備昂貴,故應用范圍也很??;AlN陶瓷基片是新一代高性能陶瓷基片,具有很高的熱導率(理論值為319W/m.K,商品化的AlN基片熱導率大于140W/m.k)、較低的介電常數(shù)(8.8)和介電損耗(~4×104)、以及和硅相配比的熱膨脹系數(shù)(4.4×10-4/℃)等優(yōu)點,但由于成本居高,一直沒能大規(guī)模應用;Al2O3陶瓷基片雖然熱導率不高(20W/m.K),但因其生產工藝相對簡單,成本較低,價格便宜,成為目前最廣泛應用的陶瓷基片.

一般采用流延成型法制備氧化鋁陶瓷基片,目前發(fā)展到使用非苯系、無毒、無公害溶劑體系,對環(huán)境無污染,且流延坯片的干燥速率易于控制,配料中使用的溶劑可回收循環(huán)利用。在流延生坯上可以沖制各種形狀和孔,然后進行燒成,可在連續(xù)式空氣氣氛窯爐中同時完成排膠和燒成的生產方式。96%氧化鋁陶瓷基片材料中添加了合適的礦物原料作為助熔劑,燒成溫度低到1580℃~1600℃,產品密度即可達3.75g/cm3以上。對于尺寸精度要求較高的產品,可以在燒成后,以激光加工方法,在基片上劃線、打孔,精度達到±0.05mm。

純度:96%,

顏色:乳白色

尺寸:100x100x1.0mm以內,可以根據(jù)客戶的要求切割

表面粗糙度:< 0.01um(拋光后); <1um(毛坯)

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